发光单元检测方法、装置、电子设备及存储介质与流程

文档序号:37829563发布日期:2024-04-30 17:39阅读:40来源:国知局
发光单元检测方法、装置、电子设备及存储介质与流程

本发明涉及发光元件检测,尤其涉及一种发光单元检测方法、装置、电子设备及存储介质。


背景技术:

1、发光单元是显示设备的重要组成部分,包括光致发光和电致发光这些不同原理的发光类型。要保证显示设备的显示质量,就需要对发光单元进行检测,确保其发光强度等性能达标。

2、在新型显示高端制造行业,发光单元的发光强度一致性的要求在±3%左右,而检测过程中容易出现亮度较低的缺陷/边缘等区域过检,而亮度较强的区域漏检等问题,导致发光强度一致性检测的检测准确度较低。


技术实现思路

1、本发明的主要目的在于提供一种发光单元检测方法、装置、电子设备及存储介质,旨在解决因过检或漏检导致发光单元的发光强度一致性检测准确度低的技术问题。

2、为实现上述目的,本发明提供一种发光单元检测方法,该方法包括:

3、获取成像系统中点光源的光强分布信息;

4、根据所述光强分布信息,确定标记单元的光强响应信息,所述标记单元包括至少一个发光单元;

5、根据所述光强响应信息构建校正函数;

6、基于所述校正函数对所述成像系统生成的检测图像进行校正处理,得到校正图像。

7、可选地,所述获取成像系统中点光源的光强分布信息的步骤包括:

8、确定所述点光源的发光性质;

9、根据所述发光性质,确定与所述点光源的光强分布适配的光强分布函数,得到所述光强分布信息。

10、可选地,所述点光源近似为高斯光束,确定所述光强分布函数为:

11、;

12、其中,表示纵向方向,表示距离点光源的第个像素点,在纵向方向上的光强;p表示光束总功率;表示点光源沿着z方向的1/e2光束半径。

13、可选地,所述根据所述光强分布信息,确定所述标记单元的光强响应信息的步骤包括:

14、识别所述标记单元的周围轮廓,根据所述周围轮廓确定所述标记单元所包含的目标点光源;

15、基于所述目标点光源的光强分布信息,构建所述标记单元的点云扩散函数,得到所述光强响应信息。

16、可选地,所述根据所述光强响应信息构建校正函数的步骤包括:

17、根据所述标记单元在基底上的排列情况,对所述标记单元的毗邻单元进行近似处理,以确定所述毗邻单元的位置;

18、基于所述毗邻单元的光强响应信息,构建所述标记单元的校正函数。

19、可选地,所述基于所述校正函数对所述成像系统生成的检测图像进行校正处理,得到校正图像的步骤包括:

20、获取所述检测图像,确定所述检测图像中各点光源的光强分布信息;

21、通过所述校正函数对所述光强分布信息进行校正处理,得到与所述检测图像对应的校正图像。

22、可选地,在所述基于所述校正函数对所述成像系统生成的检测图像进行校正处理,得到校正图像的步骤之后,所述方法还包括:

23、获取所述校正图像中各发光单元的光强分布情况;

24、根据所述光强分布情况,识别出发光强度超过预设光强范围的缺陷发光单元。

25、此外,为实现上述目的,本发明还提供一种发光单元检测装置,所述发光单元检测装置包括:

26、获取???,用于获取成像系统中点光源的光强分布信息;

27、确定???,用于根据所述光强分布信息,确定标记单元的光强响应信息,所述标记单元包括至少一个发光单元;

28、构建???,用于根据所述光强响应信息构建校正函数;

29、校正???,用于基于所述校正函数对所述成像系统生成的检测图像进行校正处理,得到校正图像。

30、此外,为实现上述目的,本发明还提供一种电子设备,所述电子设备包括:存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的发光单元检测程序,所述发光单元检测程序配置为实现如上文所述的发光单元检测方法的步骤。

31、此外,为实现上述目的,本发明还提供一种计算机可读存储介质,所述计算机可读存储介质上存储有发光单元检测程序,所述发光单元检测程序被处理器执行时实现如上文所述的发光单元检测方法的步骤。

32、本发明实施例提供的发光单元检测方法,获取成像系统中点光源的光强分布信息,通过光强分布信息表示点光源在纵向方向上的光强分布,将成像系统中的像素视为点光源,确定成像系统对像素的响应;根据所述光强分布信息,确定所述标记单元的光强响应信息,标记单元中包括至少一个点光源,光强响应信息可以表示标记单元产生的光扩散;根据所述光强响应信息构建校正函数,通过校正函数描述标记单元的毗邻单元对其检测到的发光强度产生的影响;基于所述校正函数对检测图像进行校正处理,得到校正图像,经过校正处理之后,毗邻单元对标记单元检测到的发光强度的影响被扣除,得到能够准确反映标记单元自身的发光强度的校正图像。在成像系统对批量发光单元进行成像,生成检测图像的基础上,通过校正函数消除标记单元的毗邻单元对其检测到的发光强度产生的影响,考虑了毗邻效应在发光单元一致性检测中的影响,从而避免过检和漏检的问题,提升发光单元一致性检测的准确度。



技术特征:

1.一种发光单元检测方法,其特征在于,所述发光单元检测方法包括以下步骤:

2.如权利要求1所述的发光单元检测方法,其特征在于,所述获取成像系统中点光源的光强分布信息的步骤包括:

3.如权利要求2所述的发光单元检测方法,其特征在于,所述点光源近似为高斯光束,确定所述光强分布函数为:

4.如权利要求1所述的发光单元检测方法,其特征在于,所述根据所述光强分布信息,确定标记单元的光强响应信息的步骤包括:

5.如权利要求1所述的发光单元检测方法,其特征在于,所述根据所述光强响应信息构建校正函数的步骤包括:

6.如权利要求1所述的发光单元检测方法,其特征在于,所述基于所述校正函数对所述成像系统生成的检测图像进行校正处理,得到校正图像的步骤包括:

7.如权利要求1-6中任一项所述的发光单元检测方法,其特征在于,在所述基于所述校正函数对所述成像系统生成的检测图像进行校正处理,得到校正图像的步骤之后,所述方法还包括:

8.一种发光单元检测装置,其特征在于,所述发光单元检测装置包括:

9.一种电子设备,其特征在于,所述电子设备包括:存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的发光单元检测程序,所述发光单元检测程序配置为实现如权利要求1至7中任一项所述的发光单元检测方法的步骤。

10.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述计算机可读存储介质上存储有发光单元检测程序,所述发光单元检测程序被处理器执行时实现如权利要求1至7中任一项所述的发光单元检测方法的步骤。


技术总结
本发明公开了一种发光单元检测方法、装置、电子设备及存储介质,属于发光元件检测技术领域,该方法包括:获取成像系统中点光源的光强分布信息;根据所述光强分布信息,确定发光单元的光强响应信息;根据所述光强响应信息构建校正函数;基于所述校正函数对所述成像系统生成的检测图像进行校正处理,得到校正图像。本发明通过考虑毗邻效应在发光单元批量检测中的影响,实现了提升发光单元批量检测准确度的技术效果。

技术研发人员:柯链宝,张海裕,汪伟,毕海,何兆铭
受?;さ募际跏褂谜撸?/b>季华实验室
技术研发日:
技术公布日:2024/4/29
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