磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及硬盘驱动器化DD)等磁盘装置中搭载的磁盘用玻璃基板的制造方法和 磁盘的制造方法。
【背景技术】
[0002] 作为硬盘驱动器化DD)等磁盘装置中搭载的信息记录介质的一种，存在有磁盘。磁 盘是通过在基板上形成磁性层等薄膜而构成的，作为该基板，W往一直使用侣基板。但是， 最近，随着记录的高密度化的要求，与侣基板相比玻璃基板能够使磁头与磁盘的间隔变得 更窄，因此玻璃基板所占的比例逐渐提高。另外，对玻璃基板表面高精度地进行研磨W使磁 头的悬浮高度尽量下降，由此实现记录的高密度化。近年来，对于HDD的进一步大记录容量 化的要求始终在提高，为了实现该要求，对于磁盘用玻璃基板也需要进一步的高品质化，要 求更平滑且更洁净的玻璃基板表面。
[0003] 为了实现如上所述的记录的高密度化所需要的低飞行高度(悬浮量），磁盘表面必 须具有高平滑性。为了得到磁盘表面的高平滑性，结果就要求高平滑性的基板表面，因此， 需要对玻璃基板表面高精度地进行研磨，但仅仅如此是不够的，还需要通过研磨后的清洗 将基板表面的附着异物去除而得到洁净的基板表面。
[0004] 作为现有的方法，通常的方法是例如像专利文献1中公开的那样，在研磨后利用将 Na0H、K0H等无机碱剂溶解于水而成的清洗液对基板进行清洗。
[0005] 现有技术文献
[0006] 专利文献
[0007] 专利文献1:日本特开2010-86563号公报
【发明内容】
[000引发明所要解决的课题
[0009] 现在的HDD已经达到了能够实现每1平方英寸约500千兆字节的记录密度的程度， 例如1片2.5英寸型（直径65mm)的磁盘能够收纳约320千兆字节的信息，但还要求实现进一 步的记录的高密度化、例如375~500千兆字节、甚至1太字节。伴随着运种近年来的皿D的大 容量化的要求，提高基板表面品质的要求变得比迄今为止更加严格。对于面向如上所述的 例如375~500千兆字节的磁盘的下一代基板而言，基板对介质特性的影响增大，因此不仅 要求改善基板表面的粗糖度，对于不存在由异物附着等导致的表面缺陷的方面，也要求在 现有品的水平上进行进一步的改善。
[0010] 下一代基板中基板对介质特性的影响增大的理由如下所述。
[0011] 可W举出磁头的悬浮量(磁头与介质（磁盘)表面的间隙）的大幅降低（低悬浮量 化)运样的理由。由此，磁头与介质的磁性层的距离接近，因此能够拾取更小的磁性颗粒的 信号，能够实现记录的高密度化。近年来，为了实现现有水平W上的低悬浮量化，在磁头上 搭载了DFH(Dynamic Flying Hei曲t，动态飞行高度)运样的功能。该功能是在磁头的记录 再现元件部的附近设置极小的加热器等加热部、从而仅使记录再现元件部周边朝向介质表 面方向突出的功能。今后，利用该DFH功能，磁头的元件部与介质表面的间隙可望极度减小 至小于化m或小于Inm。在运样的状况下，极度减小了基板表面的平均粗糖度，结果，若存在 由于W往不成为问题的极小的异物(例如主表面的面内方向的长度为10~40nm左右的小异 物)的附着等而略微形成凸状的程度的表面缺陷，则会直接在介质表面形成凸状缺陷，因此 磁头碰撞的危险性增高。
[0012] 根据本发明人的研究得知，即使使用W上述专利文献1所公开的方法为代表的现 有的各种精密研磨技术、精密清洗技术或者将它们组合使用，也无法兼顾清洗后的低粗糖 度和高洁净度。
[0013] 伴随着近年来的HDD的大容量化的要求，提高基板表面品质的要求变得比迄今为 止更加严格。直到几年前，对基板表面的平滑性所要求的水平例如WRa表示还是0.3~ 0.4皿左右，但目前WRa表示已要求为0.1~0.2皿左右。即，对于磁盘用玻璃基板而言，目前 所要求的平滑性的水平与几年前显著不同，可W预料到将来所要求的水平会进一步提高。 现有的使用无机碱剂的碱清洗法或可设法达到几年前为止所要求的水平，但至少要达到目 前所要求的水平，W现有的方法来看是很困难的。简言之，在运样的状况下，利用现有的改 善方法来实现基板表面品质的进一步提高是存在极限的。需要说明的是，在此所说的碱性 试剂是指溶解于水时显示出碱性的物质。
[0014] 本发明是为了解决运样的现有课题而进行的，其目的在于，第一，提供能够在尽量 不使通过精密研磨而得到的高平滑的表面状态劣化的情况下进行清洗处理、结果能够实现 超低粗糖度(高平滑性）的磁盘用玻璃基板的制造方法;第二，提供能够在维持通过精密研 磨而得到的高平滑性的同时实施高洁净的清洗的磁盘用玻璃基板的制造方法。
[0015] 用于解决课题的手段
[0016] 为了提高基板的洁净度，需要将W往不成为问题的水平的小且牢固固定在基板表 面的异物清洗除去，为此，利用抑高(碱性强）的碱试剂进行清洗时能够达到高洁净度，因而 优选。其原因在于，抑高的碱试剂对玻璃的表面进行强蚀刻，因此，即使是牢固固定的异物， 也能够将其根除。但是，在现有的使用化〇H、KOH等无机碱剂的碱清洗中，若抑升高则对玻璃 的蚀刻效果增大，另一方面，清洗会导致基板表面的粗糖度升高，从而无法维持通过精密研 磨而得到的超平滑的表面。现有的使用无机碱剂的碱清洗法或可设法达到几年前为止所要 求的表面粗糖度水平，但至少要达到与几年前为止相比要求变得格外苛刻的目前所要求的 表面粗糖度水平，W现有的方法来看是很困难的。
[0017] 因此，本发明人对于在维持由碱清洗带来的清洗力的状态下抑制基板的表面粗糖 度的升高的方法进行了各种途径的尝试。例如，本发明人对有机碱剂的使用进行了研究。但 是，即使是有机碱剂，根据其种类的不同，清洗后的表面粗糖也会时大时小。另外发现了，即 使是相同的有机碱剂，若产品批次不同，则清洗后的表面粗糖的程度也不同。
[0018] W往，普遍的认识是碱清洗后的玻璃基板表面的粗糖度升高很大程度地取决于碱 性试剂添加所产生的清洗液的碱性的强度(pH)，清洗液的碱性越强则粗糖度升高越大，本 发明人对运一点进行了深入研究，结果发现，清洗液中的钢离子、钟离子的存在与碱清洗时 的玻璃基板的粗糖度升高显著相关。进一步发现，清洗后的表面粗糖的程度之所W根据有 机碱剂的种类、产品批次而不同是由于清洗液中存在的钢离子、钟离子的量不同的影响所 致的。例如，四甲基氨氧化锭(TMAH)等有机碱本来不含有钢、钟离子中的任一种，但认为其 在工业制造过程中不可避免地混入了钢、钟等，发现运与玻璃基板的表面粗糖有关。
[0019] W上的结果是，本发明人发现了，通过在抑制清洗液中的钢离子、钟离子的含量W 使其不超过例如规定值的同时进行清洗，能够抑制清洗后的玻璃基板表面的粗糖度升高。
[0020] 另外还发现了，特定的有机碱剂适合作为清洗中使用的碱性试剂。
[0021] 本发明人基于所得到的运些技术思想进一步进行了深入研究，结果完成了本发 明。
[0022] 旨P，本发明具有W下的构成。
[0023] (构成 1)
[0024] -种磁盘用玻璃基板的制造方法，其包括使碱性的清洗液与研磨成镜面的玻璃基 板的表面接触而进行清洗的清洗处理，其特征在于，上述玻璃基板在玻璃成分中含有钢和 钟中的至少一种成分，上述清洗处理中使用的清洗液含有由下述通式I表示的有机碱，在抑 制清洗液中所含有的钢离子和钟离子的含量的同时进行上述清洗处理。
[002引通式I
[0026] [(R)饥+OH-
[0027] (其中，R表示烷基，与N原子键合的4个烷基之中的至少一个烷基具有一个W上的 径基(OHS))
[002引（构成2)
[0029] 如构成1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在上述有机碱中，与N原 子键合的4个R之中的至少一个为在未与N原子键合的一侧的末端具有径基的直链烷基。
[0030] (构成 3)
[0031] 如构成2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在上述有机碱中，上述 在未与N原子键合的一侧的末端具有径基的直链烷基为在N原子与径基之间具有2个W上的 碳原子的直链烷基。
[0032] (构成 4)
[0033] 如构成1~3中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在将上述 清洗液中的钢离子和钟离子的总量抑制为4毫摩尔/升W下的同时进行上述清洗处理。
[0034] (构成 5)
[0035] -种磁盘用玻璃基板的制造方法，其包括使碱性的清洗液与研磨成镜面的玻璃基 板的表面接触而进行清洗的清洗处理，其特征在于，上述玻璃基板在玻璃成分中含有钢和 钟中的至少一种成分，上述清洗处理中使用的清洗液含有由下述通式I表示的有机碱，在使 上述清洗液中的钢离子和钟离子的总量为4毫摩尔/升W下的条件下进行上述清洗处理。
[0036] 通式 I
[0037] [(R)4N]+0H_
[0038] (其中，R表示烷基，与N原子键合的4个烷基之中的至少一个烷基具有一个W上的 径基(OHS))
[0039] (构成 6)
[0040] -种磁盘用玻璃基板的制造方法，其包括使碱性的清洗液与研磨成镜面的玻璃基 板的表面接触而进行清洗的清洗处理，其特征在于，上述玻璃基板在玻璃成分中含有钢和 钟中的至少一种成分，上述清洗处理中使用的清洗液含有下由述通式I表示的有机碱，预先 求出上述清洗处理后的玻璃基板主表面的表面粗糖度(Ra)相对于上述清洗处理前的增大 量与上述清洗液中的钢离子和钟离子的总量的关系，基于求出的上述关系，确定上述表面 粗糖度(Ra)的增大量为〇.〇5nmW下时的上述清洗液中的钢离子和钟离子的总量，维持使上 述清洗液中的钢离子和钟离子的总量为上述确定的总量W下的条件来进行上述清洗处理。 [OOW 通式I
[0042] [(R)饥+OH-
[0043] (其中，R表示烷基，与N原子键合的4个烷基之中的至少一个烷基具有一个W上的 径基(OHS))
[0044] (构成 7)
[0045] 如构成1~6中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述清洗 液进一步含有选自N，N'-四甲基乙二胺和N，N'-四甲基乙二胺的衍生物中的至少一种。
[0046] (构成 8)
[0047] -种磁盘用玻璃基板的制造方法，其包括使碱性的清洗液与研磨成镜面的玻璃基 板的表面接触而进行清洗的清洗处理，其特征在于，上述玻璃基板在玻璃成分中含有钢和 钟中的至少一种成分，上述清洗处理中使用的清洗液含有选自四甲基氨氧化锭、N，N'-四甲 基乙二胺和N，N'-四甲基乙二胺的衍生物中的至少一种碱性试剂，为了降低由上述清洗处 理导致的上述玻璃基板表面的粗糖，在抑制上述清洗处理中使用的清洗液中所含有的钢离 子和钟离子的含量的同时进行上述清洗处理。
[0048] (构成 9)
[0049] 如构成8所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在将上述清洗液中的钢 离子和钟离子的总量抑制为4毫摩尔/升W下的同时进行上述清洗处理。
[0050] (构成 10)
[0051] -种磁盘用玻璃基板的制造方法，其包括使碱性的清洗液与研磨成镜面的玻璃基 板的表面接触而进行清洗的清洗处理，其特征在于，上述玻璃基板在玻璃成分中含有钢和 钟中的至少一种成分，上述清洗处理中使用的清洗液含有选自四甲基氨氧化锭、N，N'-四甲 基乙二胺和N，N'-四甲基乙二胺的衍生物中的至少一种碱性试剂，在使上述清洗液中的钢 离子和钟离子的总量为4毫摩尔/升W下的条件下进行上述清洗处理。
[00对（构